特許
J-GLOBAL ID:200903053113249503
処理装置及び不純物質捕捉方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-391411
公開番号(公開出願番号):特開2002-191901
出願日: 2000年12月22日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】 不純物質を除去するトラップ手段を備え、高清浄のもとで処理を行える処理装置を提供することにある。【解決手段】 内部に被処理体が配置される空間を形成する筐体と、該筐体内において循環している気体中に含まれる不純物質を捕捉するためのトラップ手段とを備える処理装置であり、このトラップ手段は冷却機能を備えていることが好ましい。
請求項(抜粋):
内部に被処理体が配置される空間を形成する筐体と、該筐体内において循環している気体中に含まれる不純物質を捕捉するためのトラップ手段とを、備えることを特徴とする処理装置。
IPC (3件):
B01D 8/00
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
FI (3件):
B01D 8/00 Z
, H01L 21/31 A
, H01L 21/302 B
Fターム (18件):
4D076AA15
, 4D076AA16
, 4D076BC03
, 4D076BC07
, 4D076BC23
, 4D076BC25
, 4D076BC27
, 4D076CD13
, 4D076CD23
, 4D076DA10
, 4D076DA21
, 4D076FA18
, 4D076HA12
, 5F004AA15
, 5F004BC06
, 5F004BC08
, 5F045BB15
, 5F045EB08
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-325109
出願人:東京エレクトロン株式会社
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熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-341425
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
-
半導体ウェーハの高温高圧処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-072115
出願人:株式会社神戸製鋼所
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審査官引用 (6件)
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-325109
出願人:東京エレクトロン株式会社
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熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-341425
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
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半導体ウェーハの高温高圧処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-072115
出願人:株式会社神戸製鋼所
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