特許
J-GLOBAL ID：200903053180311019

ガスの製造方法、酸性水及びアルカリ水の製造方法、並びにそれらの製造装置

発明者：
大川 和宏

大川 和宏 について

, 
藤井 克司

藤井 克司 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について

, 
学校法人東京理科大学

学校法人東京理科大学 について


代理人 (2件)： 赤尾 謙一郎 ,  下田 昭
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2006301513
公開番号（公開出願番号）：WO2006-082801
出願日： 2006年01月31日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】 電極コストが低く、低い印加電圧で光電気化学反応を起こすことが可能なガスの製造方法、酸性水及びアルカリ水の製造方法、ならびにそれらの製造装置を提供する。【解決手段】 水溶液中に浸漬され互いに電気的に接続される陽極と陰極とを用い、前記水溶液を酸化還元し、前記陰極側から水素ガス、もしくは陽極から酸性水及び陰極からアルカリ水を製造する方法であって、前記陽極及び前記陰極の少なくとも一方がAlyGa1-x-yInxN(x-y≦0.45,0≦x≦1,0≦y≦1)で表記される窒化物系の半導体光触媒であり、前記陽極及び前記陰極の間に電圧を印加する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
溶液中に浸漬され互いに電気的に接続される陽極と陰極とを用い、前記陰極側から水素ガスを製造する方法であって、前記陽極及び前記陰極の少なくとも一方がAlyGa1-x-yInxN(x-y≦0.45,0≦x≦1,0≦y≦1)で表記される窒化物系の半導体光触媒であり、前記陽極及び前記陰極の間に電圧を印加し、かつ前記半導体光触媒に光を照射するガスの製造方法。
IPC (5件)：
C25B 11/06 ,  C25B 11/04 ,  C25B 1/10 ,  B01J 35/02 ,  B01J 27/24
FI (5件)：
C25B11/06 B ,  C25B11/04 Z ,  C25B1/10 ,  B01J35/02 J ,  B01J27/24 M
Fターム (42件)：
4G169AA08 ,  4G169BA48A ,  4G169BB11A ,  4G169BB11B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC17A ,  4G169BC17B ,  4G169BC18A ,  4G169BC18B ,  4G169CD10 ,  4G169DA05 ,  4G169EA03Y ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169HA01 ,  4G169HB10 ,  4G169HC17 ,  4G169HC18 ,  4G169HC28 ,  4G169HC32 ,  4G169HD04 ,  4G169HE20 ,  4G169HF01 ,  4K011AA13 ,  4K011AA24 ,  4K011AA55 ,  4K011AA66 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021BA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BA03 ,  4K021BA05 ,  4K021BA17 ,  4K021BB02 ,  4K021DB01 ,  4K021DB05 ,  4K021DB10 ,  4K021DB12 ,  4K021DB18 ,  4K021DC03
引用特許：
出願人引用 (9件)
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