感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小島清路 , 谷口直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-359842
公開番号（公開出願番号）：特開2005-043852
出願日： 2003年10月20日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】 KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー等の遠紫外線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】本感放射線性樹脂組成物は、〔A〕下記一般式(I-1)で表される繰り返し単位(1-1)を含有する樹脂と、〔B〕感放射線性酸発生剤(1-(4-n-ブトキシナフチル)テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート等)とを含有する。更に、〔C〕酸拡散制御剤(フェニルベンズイミダゾール等)を含有することができる。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

〔A〕下記一般式(I-1)で表される繰り返し単位(1-1)を含有し、アルカリ難溶性あるいは不溶性であり、酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂と、〔B〕感放射線性酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 , C08F20/20 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F20/20 , H01L21/30 502R

Fターム (48件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AK32T , 4J100AL03Q , 4J100AL03S , 4J100AL04Q , 4J100AL04S , 4J100AL05Q , 4J100AL05S , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AR11T , 4J100BA03P , 4J100BA03S , 4J100BA04 , 4J100BA11R , 4J100BA11T , 4J100BA15T , 4J100BB18P , 4J100BC02Q , 4J100BC02S , 4J100BC03Q , 4J100BC08P , 4J100BC09Q , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC12Q , 4J100BC53R , 4J100BC53T , 4J100CA01 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

特公平2-27660号公報
特開平4-226461号公報
放射線感光材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-276597 出願人：富士通株式会社

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審査官引用 (9件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-137757 出願人：ジェイエスアール株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-363338 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-360110 出願人：東京応化工業株式会社

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