特許
J-GLOBAL ID：200903053513157225
標準メッキ膜試料およびメッキ膜検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
土井 健二
, 林 恒徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-059754
公開番号（公開出願番号）：特開2007-240196
出願日： 2006年03月06日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】基材上のメッキ膜中の検査対象元素の有無の判定や定量を可能にする標準メッキ膜試料およびこの試料を用いた新規なメッキ膜の検査技術を提供する。【解決手段】プラスチック基材上にメッキ膜を形成した後、このメッキ膜に対し化学的および物理的損傷を実質的に与えない方法でプラスチック基材を除去して標準メッキ膜試料を得る。この標準メッキ膜試料から求めた検査対象元素の濃度と、標準メッキ膜試料から蛍光X線分析法により求めた検査対象元素の特性X線強度とから、標準メッキ膜試料中の検査対象元素の濃度と特性X線強度との関係を求め、基体上メッキ膜中の検査対象元素についての特性X線強度から、この関係を用いて、基体上メッキ膜中の検査対象元素の濃度を求める。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材上のメッキ膜中の検査対象元素を蛍光X線分析法により検査するための標準メッキ膜試料であって、プラスチック基材上にメッキ膜を形成した後、当該メッキ膜に対し化学的および物理的損傷を実質的に与えない方法で当該プラスチック基材を除去して得た標準メッキ膜試料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N23/223
, G01N1/00 102B
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001FA02
, 2G001FA12
, 2G001GA01
, 2G001KA01
, 2G001LA02
, 2G001MA05
, 2G001NA11
, 2G001NA12
, 2G001NA17
, 2G052AA39
, 2G052AB01
, 2G052AB22
, 2G052AD52
, 2G052GA19
, 2G052JA07
出願人引用 (2件)
-
特願2004-277573号(請求の範囲)
-
分析装置及び検査方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-321007
出願人：富士通株式会社
審査官引用 (11件)
全件表示
前のページに戻る
