特許
J-GLOBAL ID：200903053768238091
プラズマクリーニング方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-232563
公開番号（公開出願番号）：特開2002-050852
出願日： 2000年08月01日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：
【要約】【課題】 真空ケーシングを用いた基板のプラズマクリーニングにおいて、真空ケーシングへの基板の搬入及び/又は真空ケーシングからの基板の搬出をスムーズに行うことができるようにするための技術を提供する。【解決手段】 真空ケーシング10を開き、基板18を載せた第一の可動ステージ30を真空ケーシング10内のRF電極16の側端に当接させると、可動ステージ30の上面とRF電極16の基板載置部16aの上面とが略面一な搬送面を形成する。この搬送面上で基板18を押送することにより、基板18をスムーズにRF電極16に移載することができる。真空ケーシング10から基板18を搬出する際は、第二の可動ステージ32をRF電極の側端に当接させる。
請求項（抜粋）：
プラズマクリーニング前の基板を可動ステージに載置する手順、プラズマクリーニング用の真空ケーシングを開き、真空ケーシングの内部に可動ステージを挿入し、真空ケーシングの内部に配置されたRF電極に接近させる手順、及び基板を真空ケーシングの内部に向けて押送することにより可動ステージからRF電極へ基板を移載する手順を備えることを特徴とするプラズマクリーニング方法。
IPC (4件)：
H05K 3/26
, B08B 5/02
, B08B 7/00
, H01L 21/304 645
H05K 3/26 A
, B08B 5/02 Z
, B08B 7/00
, H01L 21/304 645 C
3B116AA01
, 3B116AB23
, 3B116BB21
, 3B116BB87
, 3B116BB89
, 5E343AA33
, 5E343EE08
, 5E343FF23
, 5E343GG11
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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