特許
J-GLOBAL ID:200903053985632539

撮像光学系用近赤外線カットフィルタ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 晴敏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-126174
公開番号(公開出願番号):特開2006-301488
出願日: 2005年04月25日
公開日(公表日): 2006年11月02日
要約:
【課題】加工性及び形状の多様性に優れた撮像光学系用近赤外線カットフィルタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】撮像光学系用近赤外線カットフィルタの製造方法は、透明樹脂フィルムからなるシート状の基材1を用意する準備工程と、基材1の片面又は両面に可視光線を透過し近赤外線を阻止するコーティングCを形成する成膜工程と、コーティングCが施されたシート状の基材1を打抜き加工又は型抜き加工して、所望の外形を有するフィルタ素子10を複数個作成する加工工程とを有する。例えば成膜工程は、コーティングの少なくとも一部として、屈折率の異なる2種以上の薄膜を交互に積層してなり、可視光線領域で高透過特性を示すとともに近赤外線領域で低透過特性を示す光学多層膜を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
透明樹脂フィルムからなるシート状の基材を用意する準備工程と、 該基材の片面又は両面に可視光線を透過し近赤外線を阻止するコーティングを形成する成膜工程と、 該コーティングが施されたシート状の基材を打抜き加工又は型抜き加工して、所望の外形を有するフィルタ素子を複数個作成する加工工程とを有することを特徴とする 撮像光学系用近赤外線カットフィルタの製造方法。
IPC (1件):
G02B 5/28
FI (1件):
G02B5/28
Fターム (5件):
2H048GA04 ,  2H048GA07 ,  2H048GA19 ,  2H048GA43 ,  2H048GA48
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る