特許
J-GLOBAL ID：200903054073878339

ポジ型レジスト組成物

発明者：
藤森 亨

藤森 亨 について

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児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

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漢那 慎一

漢那 慎一 について

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西山 文之

西山 文之 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-283823
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090988
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：
【要約】【課題】 超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも1つフッ素原子を含有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、及び(B)活性光線または放射線の照射により、少なくとも1つ以上の、フッ素原子を含有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (41件)：
2H025AA03 ,  2H025AA18 ,  2H025AB03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  4J002BC042 ,  4J002BC092 ,  4J002BC121 ,  4J002BC122 ,  4J002BE022 ,  4J002BG002 ,  4J002CC042 ,  4J002CP033 ,  4J002ED058 ,  4J002EG027 ,  4J002EH158 ,  4J002EL088 ,  4J002EN029 ,  4J002ER009 ,  4J002ER029 ,  4J002EU029 ,  4J002EU049 ,  4J002EU079 ,  4J002EU119 ,  4J002EU129 ,  4J002EU239 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J002FD310 ,  4J002FD313 ,  4J002GP03
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (11件)
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