特許
J-GLOBAL ID：200903001744286435
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030209
公開番号（公開出願番号）：特開2000-227659
出願日： 1999年02月08日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、詳しくは現像の際の現像欠陥発生及びスカムの発生の問題を解消し、更に線幅再現性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、脂環式炭化水素を含む特定の部分構造で保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び酸の作用により分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び酸の作用により分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/027 502
G03F 7/039 601
, G03F 7/027 502
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC04
, 2H025FA17
