特許
J-GLOBAL ID：200903054182442370

CMPシステムにおけるバッファステーション

発明者：
ジェイ ディ. ピンソン, セカンド

ジェイ ディ. ピンソン, セカンド について

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アルクマール シャンムガスンドラム

アルクマール シャンムガスンドラム について

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アーノルド アロンソン

アーノルド アロンソン について

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ロドニー ラム

ロドニー ラム について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-101559
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340534
出願日： 2000年04月03日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 CMPツールのスループットを増やすために一枚以上の基板を支持するバッファステーションを有するCMPツールを提供する。【解決手段】 バッファステーション32が内部に、または隣接して配置されているケミカルメカニカルポリシングシステムが提供される。このバッファステーションは、検査ステーション20に隣接した二枚以上の基板を支持する二つ以上の基板支持体を含んでいる。この二つ以上の基板支持体は、一対の基板支持体を検査ステーション上で相互に近づくように、または相互に離れるように横方向に移動させるアクチュエータに連結された取付プレート上に取り付けられている。
請求項（抜粋）：
基板ポリシングシステム内で基板を支持するための装置であって、a)一つ以上の支持支柱に取り付けられた二つ以上の基板支持体と、b)前記基板支持体に連結された一つ以上の取付プレートと、c)前記支持支柱に連結された駆動機構と、を備える装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 621 ,  B24B 37/04 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/68
FI (7件)：
H01L 21/304 622 L ,  H01L 21/304 622 P ,  H01L 21/304 622 S ,  H01L 21/304 621 D ,  B24B 37/04 Z ,  B65G 49/07 G ,  H01L 21/68 A
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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