特許
J-GLOBAL ID：200903054233877504
パターン分解フィーチャのためのモデルベースOPCを行うための方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237170
公開番号（公開出願番号）：特開2008-096991
出願日： 2007年09月12日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：
【課題】結像されるフィーチャを含むターゲット回路パターンを複数パターンに分解する方法を提供する。【解決手段】このプロセスは、印刷されるフィーチャを第1パターンと第2パターンに分離するステップ、第1パターンおよび第2パターンに第1光近接効果補正プロセスを行うステップ、第1パターンおよび第2パターンの結像結像性能を決定するステップ、第1パターンと第1パターンの結像結像性能との間の第1誤差、および、第2パターンと第2パターンの結像結像性能との間の第2誤差を決定するステップ、第1誤差を使用して第1パターンを調整し、修正第1パターンを作成するステップ、第2誤差を使用して第2パターンを調整し、修正第2パターンを作成するステップ、修正第1パターンおよび修正第2パターンに第2光近接効果補正プロセスを適用するステップ、を含む。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲット回路パターンを複数パターンに分解するための方法であって、
前記印刷されるフィーチャを第1パターンと第2パターンに分離するステップ、
前記第1パターンおよび前記第2パターンに第1光近接効果補正プロセスを行うステップ、
前記第1パターンおよび前記第2パターンの結像結像性能を決定するステップ、
前記第1パターンと前記第1パターンの前記結像結像性能との間の第1誤差、および前記第2パターンと前記第2パターンの前記結像結像性能との間の第2誤差を決定するステップ、
修正第1第1前記第1誤差を使用して前記第1パターンを調整し、修正第1パターンを作成するステップ、
修正第2第2前記第2誤差を使用して前記第2パターンを調整し、修正第2パターンを作成するステップ、および
前記修正第1パターンおよび前記修正第2パターンに第2光近接効果補正プロセスを適用するステップ、
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 514A
2H095BB02
, 2H095BB36
, 5F046AA13
, 5F046AA25
, 5F046CB17
