特許
J-GLOBAL ID：200903054627449435
基板保持装置及び研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-163051
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363505
出願日： 2003年06月06日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】基板の被研磨面の全体に亘って均一な研磨レートを得ることができる基板保持装置及びこのような基板保持装置を備えた研磨装置を提供する。【解決手段】基板Wを保持して研磨面101aに押圧する基板保持装置1であって、研磨面101aに対して垂直方向に移動可能な可動部材6と、弾性膜7により形成された圧力室22,23,24,25とを備え、弾性膜7は、基板Wに当接する当接部8と、当接部8を可動部材6に接続する周壁部9a,9b,9c,9dとを備え、周壁部9a,9b,9c,9dは研磨面101aに対して垂直方向に伸縮自在な伸縮部40a,40b,40c,40dを有する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板を保持して研磨面に押圧する基板保持装置であって、
前記研磨面に対して垂直方向に移動可能な可動部材と、
弾性膜により形成された圧力室とを備え、
前記弾性膜は、前記基板に当接する当接部と、前記当接部を前記可動部材に接続する周壁部とを備え、
前記周壁部は前記研磨面に対して垂直方向に伸縮自在な伸縮部を有することを特徴とする基板保持装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/304 622K
, B24B37/04 E
3C058AA07
, 3C058AB04
, 3C058CB01
, 3C058DA13
, 3C058DA17
