特許
J-GLOBAL ID：200903054748239080

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
内海 義之

内海 義之 について

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清水 宏明

清水 宏明 について

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大下 京子

大下 京子 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-296894
公開番号（公開出願番号）：特開2008-116496
出願日： 2006年10月31日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
【課題】ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、前記樹脂成分(A)が一般式(II)で表される構成単位(a1)を有する共重合体を含有するポジ型レジスト組成物。[式(II)中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基を示し;R1〜R3は、それぞれ独立してアルキル基又はフッ素化アルキル基である。ただし、前記フッ素化アルキル基は、R1〜R3が結合している第三級炭素原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合していない基であり、R1〜R3の少なくとも一つは、前記フッ素化アルキル基である。R2及びR3は、一つの環構造を形成していてもよい。][化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(II)で表される構成単位(a1)を有する共重合体を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (11件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF07 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (7件)
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