特許
J-GLOBAL ID：200903092960045570
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-173315
公開番号（公開出願番号）：特開2006-349800
出願日： 2005年06月14日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】 解像力に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、環状の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有する共重合体(A1)と、分岐鎖状の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1’)を有する共重合体(A1’)との混合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)が、環状の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有する共重合体(A1)と、分岐鎖状の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1’)を有する共重合体(A1’)との混合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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