特許
J-GLOBAL ID：200903054830618102

金属・プラスチックハイブリッド構造印刷版の製造方法

発明者：
杉山 圭介

杉山 圭介 について

, 
谷口 義博

谷口 義博 について


出願人/特許権者：
株式会社プロセス・ラボ・ミクロン

株式会社プロセス・ラボ・ミクロン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-145726
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340926
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 プリント配線にはんだを印刷するための金属プラスチックハイブリッド構造印刷版の製造方法。【解決手段】ドライエッチング可能な金属層1とポリイミド樹脂層2を接着材料3を介して接着した金属・プラスチックハイブリッド構造材料に対し、ポリイミド樹脂層側からレーザーを用いてポリイミド層と対面している金属層の一部までを切断開口し、ポリイミド樹脂層をマスクとして、金属層をリアクティブイオンエッチング法により異方性エッチングを行い貫通開口部を形成し、必要貫通開口部内に残留した部分を除去することにより平滑且つ垂直な壁面を有する高アスペクト比貫通開口部4を形成した後に、必要に応じてプラスチック層に対面しない側の金属に表面処理を施し、必要な表面硬度とする金属・プラスチックハイブリッド構造印刷版の製法。
請求項（抜粋）：
単層または複数層の積層からなるドライエッチング可能な金属層の片面に、感光性のポリイミド樹脂を塗布あるいは積層して、金属・プラスチックハイブリッド構造材料を形成し、紫外線フォトリソグラフィー技術を用いて貫通開口形成部分のポリイミド樹脂を除去し、貫通開口形成部分の金属表面を露出させ、次に標準状態で20mmHg以上の蒸気圧を有する、塩素系またはフッ素系の物質を、それぞれ単独または混合した状態、あるいはこれに更に、酸素、空気あるいは不活性気体を混合させた状態のものを用いて、硬化させたポリイミド樹脂をマスクとして金属層をドライエッチングの1種であるリアクティブイオンエッチング法により異方性エッチングを行い貫通開口部を形成することにより平滑且つ垂直な壁面を有する高アスペクト比の貫通開口部を形成した後に、必要に応じてプラスチック層に対面しない側の金属に表面処理を施し、表面硬度をビッカース硬度400〜1000とすることを特徴とする、金属・プラスチックハイブリッド構造印刷版の製造方法。
IPC (6件)：
H05K 3/06 ,  B23K 26/00 320 ,  B41C 1/14 101 ,  B41N 1/24 ,  G03F 7/00 501 ,  C23F 4/00
FI (6件)：
H05K 3/06 A ,  B23K 26/00 320 Z ,  B41C 1/14 101 ,  B41N 1/24 ,  G03F 7/00 501 ,  C23F 4/00 C
Fターム (63件)：
2H084AA26 ,  2H084AA32 ,  2H084BB02 ,  2H084BB04 ,  2H084CC10 ,  2H096AA20 ,  2H096AA26 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096CA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA00 ,  2H096HA01 ,  2H096HA17 ,  2H096HA18 ,  2H096HA23 ,  2H096HA24 ,  2H096JA04 ,  2H096LA01 ,  2H114AB09 ,  2H114AB17 ,  2H114DA04 ,  2H114DA73 ,  2H114DA78 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  2H114EA05 ,  2H114GA34 ,  2H114GA38 ,  4E068AA04 ,  4E068AE00 ,  4E068AJ01 ,  4E068AJ04 ,  4E068DA00 ,  4E068DB14 ,  4K057DA11 ,  4K057DA12 ,  4K057DB08 ,  4K057DD03 ,  4K057DE01 ,  4K057DE02 ,  4K057DE06 ,  4K057DE08 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DN10 ,  5E339AB02 ,  5E339AC01 ,  5E339AD01 ,  5E339AE01 ,  5E339BD06 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE15 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339DD03 ,  5E339EE10 ,  5E339FF03 ,  5E339FF10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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