特許
J-GLOBAL ID：200903056044920345

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-114493
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268743
出願日： 2007年04月24日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、100nm以下の微細パターンの形成に於いても、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)特定の、アルコキシカルボニル基で置換された3級エステル基を有する繰り返し単位(B1)を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (B)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位(B1)を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10
Fターム (21件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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