特許
J-GLOBAL ID：200903056116489601

パターン欠陥検査装置

発明者：
宇都 幸雄

宇都 幸雄 について

, 
吉田 実

吉田 実 について

, 
中田 俊彦

中田 俊彦 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について

, 
下田 篤

下田 篤 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小川 勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228166
公開番号（公開出願番号）：特開2003-042967
出願日： 2001年07月27日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。【解決手段】検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。
請求項（抜粋）：
被検査対象基板を載置してXY方向に走行可能なステージと、紫外レーザ光を出射する紫外レーザ光源と、該紫外レーザ光源から出射された紫外レーザ光から複数の発光像を形成するマルチスポット成形器、該マルチスポット成形器で形成された複数の発光像からなる紫外レーザ光について可干渉性を低減する可干渉低減光学系、および該可干渉低減光学系を通過して可干渉性が低減された複数の紫外レーザ光を対物レンズの瞳位置に集光させる集光光学系を備え、該集光光学系により前記対物レンズの瞳上に集光された複数の紫外レーザ光を前記被検査対象基板上に照射する照明光学系と、前記被検査対象基板上に形成された回路パターンからの紫外の反射光像を結像させる結像光学系、および該結像光学系で結像された紫外の反射光像を受光して画像信号に変換するイメージセンサを備えた検出光学系と、該検出光学系のイメージセンサから得られる画像信号をA/D変換するA/D変換器、および該A/D変換器で変換された検出ディジタル画像信号と参照ディジタル画像信号と比較して前記回路パターンにおける欠陥または欠陥候補を検出して検査情報を出力する比較器を有する画像信号処理回路と、前記紫外レーザ光源から出射された紫外レーザ光の一部を分岐してその強度を検出する光量モニタ部とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J
Fターム (23件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CC07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051ED11 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11
引用特許：
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM