特許
J-GLOBAL ID：200903056397106129

現像方法及び現像装置

発明者：
立山 清久

立山 清久 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-219857
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147787
出願日： 1999年08月03日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 現像速度を上げることや現像の均一性を高めることができる現像方法及び現像装置を提供すること。【解決手段】 現像処理工程において、まず最初に現像液吐出ノズル71よりガラス基板Gに対して第1の吐出速度で現像液を吐出した後、現像液吐出ノズル71よりこのガラス基板Gに対して第1の吐出速度よりも速い第2の吐出速度で現像液を吐出しつつ、エアー噴出ノズル72から窒素ガスを噴出している。
請求項（抜粋）：
被処理体に対して第1の吐出速度で現像液を吐出する第1の工程と、前記第1の工程の後に、前記被処理体に対して前記第1の吐出速度より速い第2の吐出速度で現像液を吐出する第2の工程とを具備することを特徴とする現像方法。
IPC (4件)：
G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 ,  B05C 11/10 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 ,  B05C 11/10 ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 C
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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