特許
J-GLOBAL ID：200903056871287890
極端紫外光源装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
宇都宮 正明
, 渡部 温
, 柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-015410
公開番号（公開出願番号）：特開2007-200615
出願日： 2006年01月24日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】LPP型EUV光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。【解決手段】液滴生成室100と、該液滴生成室と開口部101aを介して接続されているプラズマ発生室110と、プラズマ生成室内にターゲット物質を供給するノズル102と、ノズルから供給される溶融金属のターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下する溶融金属の液滴108を生成するピエゾ素子103及びピエゾドライバ106と、生成されたターゲット物質の液滴108aが、開口部を通過するのを妨げる液滴遮断ユニット107と、液滴遮断ユニットが所定のタイミングで動作するように制御する制御部115と、レーザ光を出射するレーザ光源111と、レーザ光源から出射したレーザ光を、液滴生成室において生成され、開口部を通過してプラズマ発生室に導入されたターゲット物質の液滴108bに照射させるレンズ112とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ光源から出力されたレーザ光をターゲット物質に照射することにより、前記ターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を放射させる極端紫外光源装置であって、
第1のチャンバと、
前記第1のチャンバと開口を介して接続されている第2のチャンバと、
前記第1のチャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給手段と、
前記ターゲット物質供給手段によって供給される溶融金属のターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下する溶融金属の液滴を生成する液滴生成手段と、
前記液滴生成手段によって生成されたターゲット物質の液滴が前記開口を通過するのを妨げる少なくとも1つの遮断手段と、
前記少なくとも1つの遮断手段が所定のタイミングで動作するように前記少なくとも1つの遮断手段を制御する制御手段と、
レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射したレーザ光を、前記第1のチャンバにおいて生成され、前記開口を通過して前記第2のチャンバに導入されたターゲット物質の液滴に照射させる光学系と、
を具備する極端紫外光源装置。
IPC (3件)：
H05G 2/00
, G21K 5/08
, H01L 21/027
H05G1/00 K
, G21K5/08 X
, H01L21/30 531S
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB19
, 4C092AB30
, 4C092AC09
, 4C092BD18
, 4C092BD20
, 5F046GC03
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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