磁性膜およびその製造方法、薄膜磁気ヘッド

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小川勝男 , 木崎邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-079747
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268571
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】高周波領域においても強磁界を発生することができる磁性膜およびその製造方法、高周波領域においても記録ができる薄膜磁気ヘッドを提供すること。【解決手段】主となる磁性膜は最小Hk0.32Oe(25.6A/m)となる膜厚200nmの88FeNiを使用し、層間材料として、同じFeNi系めっき膜で低Hkかつ低Hcを有する20wt%FeNi膜を選定した。主磁性膜が合計2μmとなる様(88FeNi/20FeNi)×10層からなる積層膜を作製した。88FeNiめっき浴においてDC電流で88FeNi膜を作製し、同一浴で続けてパルスめっきを行い20FeNi膜を作製した。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

少なくとも4層以上の厚さが50〜500nmの第1の磁性めっき薄膜と、該第1の磁性めっき薄膜の間に設けられた当該第1の磁性めっき薄膜と異なる組成で厚さが2〜10nmの第2の磁性めっき薄膜を有することを特徴とする磁性膜。

IPC (11件)：

H01F10/16 , C22C19/00 , C22C38/00 , C25D5/10 , C25D5/16 , C25D5/18 , C25D5/50 , C25D7/00 , G11B5/31 , H01F10/30 , H01F41/26

FI (11件)：

H01F10/16 , C22C19/00 H , C22C38/00 303S , C25D5/10 , C25D5/16 , C25D5/18 , C25D5/50 , C25D7/00 K , G11B5/31 C , H01F10/30 , H01F41/26

Fターム (31件)：

4K024AA01 , 4K024AA02 , 4K024AA03 , 4K024AA12 , 4K024AA15 , 4K024AB04 , 4K024BA15 , 4K024BB09 , 4K024BB14 , 4K024BC10 , 4K024CA01 , 4K024CA04 , 4K024CA06 , 4K024CA07 , 4K024CB05 , 4K024DB01 , 4K024GA16 , 5D033AA05 , 5D033BA03 , 5D033BA08 , 5D033CA01 , 5D033DA04 , 5E049AA01 , 5E049AA04 , 5E049AA07 , 5E049AC05 , 5E049BA12 , 5E049CB02 , 5E049DB12 , 5E049LC01 , 5E049LC06

引用特許：

出願人引用 (2件)

軟磁性膜とこの軟磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッド、ならびに前記軟磁性膜の製造方法と前記薄膜磁気ヘッドの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-005906 出願人：アルプス電気株式会社
軟磁性膜及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-001458 出願人：アルプス電気株式会社

審査官引用 (6件)

軟磁性多層膜およびこれを用いた磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-105520 出願人：三菱電機株式会社
軟磁性膜と薄膜磁気ヘッドとこれらの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-242423 出願人：ソニー株式会社
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-155855 出願人：株式会社日立製作所

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