特許
J-GLOBAL ID：200903057002002695
レーザアブレーション装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296720
公開番号（公開出願番号）：特開2003-105530
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 基板サイズに拘らず、レーザ入射角、基板-ターゲット間距離等を最良な成膜条件に設定して、均一な膜厚及び膜質にて基板に成膜するレーザアブレーション装置を提供すること。【解決手段】 レーザアブレーション装置は、基板20を支持する基板ホルダ30と、基板20に対して傾斜させてターゲット40を支持するターゲットホルダ50と、基板20と平行な方向Aに沿ってターゲット40に入射角θにて入射するレーザ光を出射するレーザ光出射部60とを有する。基板20はC方向に自転され、ターゲット40はD方向に往復スライド移動される。レーザ光は、レーザ出射方向Aと直交し、基板20の回転半径方向Eと一致する方向Bに走査される。
請求項（抜粋）：
被成膜面を有する基板を支持する基板ホルダと、前記基板の前記被成膜面に対して傾斜させてターゲットを支持するターゲットホルダと、前記ターゲットに対して所定の入射角にて入射するレーザ光を出射するレーザ光出射部と、を有することを特徴とするレーザアブレーション装置。
Fターム (4件)：
4K029DB14
, 4K029DB20
, 4K029EA00
, 4K029JA02
