研磨スラリー及び研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-259279
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077365
出願日： 1998年08月29日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 CFx膜に代表される有機膜をCMP処理する。【解決手段】有機膜W1をCMP(Chemical MechanicalPolishing)により研磨するに際して、研磨スラリー14として有機膜W1を酸化する酸化剤と砥粒とを混合したもの、或いはこれに更にpH調整剤を加えたものを用いる。これにより、有機膜の表面を効率的に研磨して平坦化する。

請求項（抜粋）：

有機膜をCMP(Chemical Mechanical Polishing)により研磨するに際して、該有機膜を酸化する酸化剤と砥粒とを含む研磨スラリーを用いることを特徴とする研磨方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 622 , H01L 21/304 621 , B24B 37/00

FI (3件)：

H01L 21/304 622 D , H01L 21/304 621 D , B24B 37/00 H

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058AA16 , 3C058AB04 , 3C058AB06 , 3C058CB01 , 3C058DA02 , 3C058DA12

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-120719
研磨用合成物および研磨方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-501033 出願人：ローデルインコーポレイテッド
フッ化物添加剤を含む化学的・機械的研磨用スラリーとその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-147688 出願人：キャボットコーポレイション

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