化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびそのための共重合体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-278570
公開番号（公開出願番号）：特開平11-002903
出願日： 1997年10月13日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：

【要約】【課題】感度や解像度などのレジスト性能が良好で、基板への接着性にも優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供し、またその樹脂成分となる共重合体を提供する。【解決手段】下式(I)および(II)、任意にさらに下式(III) の構造単位を有する共重合体が提供され、またそれを樹脂成分とし、さらに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物が提供される。式中、R1 およびR2 は、水素、水酸基を有してもよいアルキル、水酸基もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を表すか、またはR1 とR2 とで、カルボン酸無水物残基を形成するか、もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を有してもよい2価の炭化水素残基を形成し、ここでR3 は水素、アルキルまたは脂環式カルボニロキシを表し、R5 は水素またはメチル、R6 は脂環式基、Xは直接結合、炭素数1〜4のアルキレンまたはシクロへキシレン、mおよびnは0または1を表す。

請求項（抜粋）：

下式(I)および(II)〔式中、R1 およびR2 は互いに独立に、水素、水酸基を有してもよいアルキル、水酸基もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を表すか、またはR1 とR2 が一緒になって、-C(=O)OC(=O)- で示されるカルボン酸無水物残基を形成するか、もしくは基 -COOCH(CH3)OC2H4-R3を有してもよい2価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素残基を形成し、ここで、R3 は水素、アルキルまたは -OCOR4 を表し、ここにR4 は脂環式基を表す〕〔式中、R5 は水素またはメチルを表し、R6 は脂環式基を表し、Xは直接結合、炭素数1〜4のアルキレンまたはシクロへキシレンを表し、mおよびnは互いに独立に0または1を表す〕で示される各構造単位を有する樹脂、および酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 , C08F222/06 , C08F222/14 , C08F232/00 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 , C08F222/06 , C08F222/14 , C08F232/00 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-050264 出願人：富士通株式会社
有橋環式炭化水素アルコール
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-144280 出願人：日本電気株式会社
レジスト組成物とレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-239871 出願人：富士通株式会社

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