投射方式の荷電粒子顕微鏡および基板検査システム

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-040120
公開番号（公開出願番号）：特開平11-238484
出願日： 1998年02月23日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】本発明はスループットを高めるのに適した投射方式の荷電粒子顕微鏡および基板検査システムを提供する。【解決手段】電子銃212から放出される照射電子ビーム216はエネルギーフィルター207で偏向され、第1投射レンズ205と対物レンズ203を通り、試料201を照射し、2次電子を発生させる。試料に印加された負電圧により加速された2次電子ビーム218は対物レンズ203と第1投射レンズ205を通過し、エネルキーフィルター207により偏向を受け、エネルギー分散される。選択された特定のエネルギーを持つ2次電子だけがエネルギー選別絞り208を通過し、さらに第2投射レンズ209を通り、撮像装置210に2次電子の投射像を形成する。図2の電子光学系は半導体基板の寸法評価や検査のために用いられる。

請求項（抜粋）：

基板を照射ビームで照射する照射手段と、その照射によって前記基板の表面から発生する荷電粒子を投射し結像する投射結像手段と、その結像された荷電粒子像を撮像する撮像手段と、前記基板を保持してX及びY方向に移動させる、位置制御される試料ステージとを具備することを特徴とする投射方式の荷電粒子顕微鏡。

IPC (7件)：

H01J 37/26 , G01N 23/20 , G01N 23/225 , H01J 37/05 , H01J 37/20 , H01J 49/46 , H01L 21/66

FI (7件)：

H01J 37/26 , G01N 23/20 , G01N 23/225 , H01J 37/05 , H01J 37/20 A , H01J 49/46 , H01L 21/66 J

引用特許：

出願人引用 (7件)

直接写像型反射電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-095180 出願人：日本電子株式会社
走査電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-079008 出願人：日本電子株式会社
特開昭62-035641

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審査官引用 (5件)

直接写像型反射電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-095180 出願人：日本電子株式会社
走査電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-079008 出願人：日本電子株式会社
特開昭62-035641

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