特許
J-GLOBAL ID：200903057882927072
マスクブランクおよび階調マスク
出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社 について
代理人 (2件)： 山下 昭彦 , 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-044501
公開番号（公開出願番号）：特開2007-256940
出願日： 2007年02月23日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】ウェットエッチングした場合に、膜へのダメージが少なく、かつ、容易にエッチング可能な多層膜を有するマスクブランクおよび階調マスクを提供する。【解決手段】透明基板11と、上記透明基板上に形成され、湿式エッチングされうる金属または金属化合物からなる膜が少なくとも2層積層された多層膜15(12、13)とを有し、上記多層膜内で接触する2層の膜は同一のエッチャントを用いて湿式エッチングされうるものであり、上記接触する2層の膜では上層の膜が下層の膜に対して電気化学的に卑であることを特徴とするマスクブランクを提供する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
透明基板と、前記透明基板上に形成され、湿式エッチングされうる金属または金属化合物からなる膜が少なくとも2層積層された多層膜とを有し、前記多層膜内で接触する2層の膜は同一のエッチャントを用いて湿式エッチングされうるものであり、前記接触する2層の膜では上層の膜が下層の膜に対して電気化学的に卑であることを特徴とするマスクブランク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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階調マスク
公報種別：公開公報 出願番号：特願平4-049837 出願人：日本石油株式会社 -
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
公報種別：公開公報 出願番号：特願2000-267552 出願人：大日本印刷株式会社 -
グレートーンマスク及びその製造方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願2000-386050 出願人：ホーヤ株式会社
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