特許
J-GLOBAL ID:200903058186114713
サセプタおよび熱処理装置および熱処理方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-072184
公開番号(公開出願番号):特開平9-260470
出願日: 1996年03月27日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【課題】半導体基板を高温熱処理する時に、半導体基板中の結晶欠陥の発生を抑制することができるサセプタおよび熱処理装置および熱処理方法を提供する。【解決手段】半導体基板1を熱処理する時に半導体基板1を水平に保持するサセプタ8は、その上に半導体基板1が搭載された状態で少なくとも熱処理温度において半導体基板1が平面となるように構成されている。特に、サセプタは、弾性体であり、重力に対して上方向に凸状の膜状体により構成されている。
請求項(抜粋):
半導体基板を熱処理する時に前記半導体基板を水平方向に保持する構造を有するサセプタにおいて、このサセプタは、その上に前記半導体基板が搭載された状態で少なくとも熱処理温度において前記半導体基板が平面となるように構成されていることを特徴とするサセプタ。
IPC (5件):
H01L 21/68
, H01L 21/22 511
, H01L 21/31
, H01L 21/324
, H01L 21/205
FI (5件):
H01L 21/68 N
, H01L 21/22 511 G
, H01L 21/31 E
, H01L 21/324 D
, H01L 21/205
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
縦型熱処理炉用ボート
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-141413
出願人:九州日本電気株式会社
-
ウエハー支持具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-263914
出願人:ローム株式会社
-
縦型炉用ボート
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-072685
出願人:ソニー株式会社
-
ウエハ保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-274090
出願人:三菱電機株式会社
-
半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-033918
出願人:住友金属工業株式会社
-
シリコンウエハ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-085182
出願人:日本電信電話株式会社
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審査官引用 (6件)
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縦型熱処理炉用ボート
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-141413
出願人:九州日本電気株式会社
-
ウエハー支持具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-263914
出願人:ローム株式会社
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縦型炉用ボート
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-072685
出願人:ソニー株式会社
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ウエハ保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-274090
出願人:三菱電機株式会社
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-033918
出願人:住友金属工業株式会社
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シリコンウエハ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-085182
出願人:日本電信電話株式会社
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