リモートプラズマ源清浄技術を用いた窒化ケイ素堆積中の白色粉末低減用の装置および方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-324651
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199874
出願日： 1997年11月26日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】プロセスチャンバ内での白色粉末の生成を抑える装置及び方法を提供する。【解決手段】本方法は、プロセスチャンバの壁の少なくとも一部分を加熱するステップ、プロセスチャンバの壁の大部分を覆うライナを設けるステップ、プロセスチャンバの内部に接続されたリモートチャンバを設けるステップ、リモートチャンバ内で清浄ガスのプラズマを生じさせるステップ、及び清浄ガスのプラズマの一部をプロセスチャンバ内に流入するステップを含んでいる。本装置は、壁を有する堆積チャンバ、壁に熱結合され壁を加熱する手段、壁の大部分を覆うライナ、チャンバの外側に配置されたリモートチャンバ、リモートチャンバ内にエネルギを供給することの可能な活性化源、リモートガス供給源からの前駆ガスをリモートチャンバ内に流入させる第1導管、及びリモートチャンバからの反応種を堆積チャンバ内に流入させる第2導管を含んでいる。

請求項（抜粋）：

窒化ケイ素を堆積するために用いられるプロセスチャンバ内での白色粉末の生成を低減する方法であって、前記プロセスチャンバの壁の少なくとも一部分を加熱するステップと、前記プロセスチャンバの壁の実質的な部分を覆うライナを設けるステップと、前記プロセスチャンバの内部に接続されたリモートチャンバを設けるステップと、前記リモートチャンバ内に清浄ガスのプラズマを生じさせるステップと、前記清浄ガスのプラズマの一部を前記プロセスチャンバ内に流入するステップと、を備え、これにより前記白色粉末の生成が実質的に低減されるようになっている方法。

IPC (2件)：

H01L 21/31 , H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/31 C , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (9件)

CVD処理チャンバ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312652 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-344970 出願人：富士電機株式会社
特開昭55-145338

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