ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-335147
公開番号（公開出願番号）：特開平9-179293
出願日： 1995年12月22日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】ポジ型フォトレジスト組成物において、高感度、高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さい、現像ラチチュードが広くなる。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、及び特定構造のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有する。

請求項（抜粋）：

下記一般式〔I〕で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-キノンジアジド-5-(及び/または-4-)スルホン酸エステルを少なくとも1種、並びにアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1〜R6:同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はシクロアルキル基、R7〜R9:同一でも異なっていてもよい水素原子又はアルキル基、R10〜R11:水素原子又はアルキル基、R12:水素原子又はアルキル基、m=0又は1、n=0〜10の整数、m+n≧1、X1〜X3:次の一般式〔II〕で表わされる基又は水素原子を示し、但しX1〜X3のうち少なくとも1つは一般式〔II〕で表わされる基である。【化2】

IPC (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (7件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-185327 出願人：日本ゼオン株式会社
特開昭56-111852
特開昭61-218616

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審査官引用 (7件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-185327 出願人：日本ゼオン株式会社
特開昭56-111852
特開昭61-218616

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