特許

J-GLOBAL ID：200903058502412160

ラクトン化合物、ラクトン含有単量体、高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 角田 真一 ,  小森谷 治彦 ,  鈴木 克俊 ,  前田 一彦
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-266071
公開番号（公開出願番号）：特開2006-076981
出願日： 2004年09月13日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：

【課題】 本発明は、新規なラクトン化合物、ラクトン含有単量体、それを用いた高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】 一般式(1)で表されるラクトン含有単量体(式中、XはCH2、CH2CH2、O、S、NR1を示す。R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。そのアルキル基の水素の一部あるいは全部がフッ素原子に置換されてもよく、さらにアルキル基の一部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、炭素-炭素二重結合、カルボニル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基を含有する原子団を含んでもよい。R5は単結合、CH2、カルボニル基を表す。)。 【化1】 【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるラクトン化合物(式中、XはCH2、CH2CH2、O、S、NR1を示し、R1は水素原子、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を表す。そのアルキル基の水素の一部あるいは全部がフッ素原子に置換されてもよく、さらにアルキル基の一部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、炭素-炭素二重結合、カルボニル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基を含有する原子団を含んでもよい。)。

IPC (4件)：

C07D 311/94 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C07D311/94 101 ,  C07D311/94 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (33件)：

2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  4C062HH69 ,  4J100AL03S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL24Q ,  4J100AR11S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-255167   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (4件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-360110   出願人：東京応化工業株式会社
• ラクトン骨格を有する(メタ)アクリル酸エステル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-185579   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• 樹脂の製造方法、樹脂、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-345719   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-188414   出願人：富士写真フイルム株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Chemistry & Industry, (1981), (19), 693-694