特許
J-GLOBAL ID：200903059245630867
照明装置及びそれを用いた光加工機
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-128826
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321524
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 レーザ光を用いてマスク面上のマスクパターンを加工物に高精度に加工することができる照明装置及びそれを用いた光加工機を得ること。【解決手段】 光源から射出した光束で被照射面を照明する照明装置において、光軸を含む互いに直交する平面を第1平面と第2平面としたとき、該第1平面はケーラー照明をし、該第2平面はクリティカル照明をしており、該第2平面内においてのみ屈折力を有し、かつ互いに対向配置した第1,第2の光学素子を有し、該第1,第2の光学素子はアフォーカル系を構成しており、該第1,第2の光学素子を光軸方向に移動させて角倍率を変えて、該被照射面の該第2平面内における照射範囲を可変としていること。
請求項（抜粋）：
光源から射出した光束で被照射面を照明する照明装置において、光軸を含む互いに直交する平面を第1平面と第2平面としたとき、該第1平面はケーラー照明をし、該第2平面はクリティカル照明をしており、該第2平面内においてのみ屈折力を有し、かつ互いに対向配置した第1,第2の光学素子を有し、該第1,第2の光学素子はアフォーカル系を構成しており、該第1,第2の光学素子を光軸方向に移動させて角倍率を変えて、該被照射面の該第2平面内における照射範囲を可変としていることを特徴とする照明装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 27/00 V
, B23K 26/06 E
4E068AF00
, 4E068CD08
, 4E068CD10
, 4E068CD14
, 4E068CK02
