特許
J-GLOBAL ID：200903059647836623

タングステンシリサイドターゲット材およびその製造方法

発明者：
平木 明敏

平木 明敏 について


出願人/特許権者：
日立金属株式会社

日立金属株式会社 について


代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-201398
公開番号（公開出願番号）：特開平8-049068
出願日： 1994年08月03日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【目的】 パーティクルの発生を低減できるターゲット材およびその製造方法を提供する。【構成】 本発明は相対密度が101%以上であり、シリコンとタングステンの原子比Si/Wが2を超えることを特徴とするタングステンシリサイドターゲット材である。本発明のターゲット材は、仮焼体を粉砕して得られた粉砕粉を1200°C〜1400°C、110MPa以上で焼結することにより得ることができる。
請求項（抜粋）：
ターゲット材が化学量論的なタングステンシリサイドWSi2および純シリコンSiで構成されると仮定して計算された理論密度に対するターゲット材の真密度の比である相対密度が101%以上であり、シリコンとタングステンの原子比Si/Wが2を超えることを特徴とするタングステンシリサイドターゲット材。
IPC (3件)：
C23C 14/34 ,  C04B 35/58 106 ,  H01L 21/203
引用特許：
出願人引用 (9件)
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