特許

J-GLOBAL ID：200903039043663860

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-402245
公開番号（公開出願番号）：特開2002-202606
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】半導体デバイスの製造において、コンタクトホールの解像において優れた感度を有するとともに、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)下記一般式(I)で示される繰り返し構造単位、一般式(II)で示される繰り返し構造単位、及び一般式(III)で示される繰り返し構造を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(C)下記溶剤A群から選択される少なくとも1種と下記溶剤B群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤、もしくは溶剤A群から選択される少なくとも1種と下記溶剤C群から選択される少なくとも1種とを含有する混合溶剤A群:プロピレングリコールモノアルキルエーテルアルコキシレートB群:プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル及びアルコキシプロピオン酸アルキルC群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネートを含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】【化2】【化3】一般式(I)中:R11〜R14は、各々独立に、酸の作用により分解する基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、-COOH、-COOR15、-C(=O)-X-A-R16、又はアルキル基或いは環状炭化水素基を表し、且つR11〜R14の内少なくとも1つは酸の作用により分解する基を表す。また、R11〜R14のうち少なくとも2つが結合して環を形成してもよい。nは0又は1を表す。ここで、R15は、アルキル基、環状炭化水素基又は下記の-Y基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-、又は-NHSO2NH-を表す。Aは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基よりなる群から選択される単独或いは2つ以上の基の組み合わせを表す。R16は、-COOH、-COOR15、-CN、水酸基、アルコキシ基、-CO-NH-R17、-CO-NH-SO2-R17又は下記の-Y基を表す。R17は、アルキル基又は環状炭化水素基を表す。-Y基;【化4】-Y基中、R21〜R30は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。a、bは、1又は2を表す。一般式(II)中:Z2は、-O-又は-N(R41)-を表す。ここでR41は、水素原子、水酸基、アルキル基、ハロアルキル基、又は-OSO2-R42を表す。R42は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。一般式(III)中:R91は、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子又は-CNを表す。X5は、-O-、-S-、-NR93-、又は-NR93SO2-を表す。R93は、水素原子、鎖状又は環状アルキル基を表す。Bは、単結合または連結基を表す。R92は、水素原子、鎖状又は環状アルキル基、アルコキシ基、水酸基、カルボキシ基、シアノ基、-COOR94、又は下記一般式(IV)〜(X)のいずれかで表される基を表す。R94は、水素原子、または鎖状又は環状アルキル基を表す。【化5】-N+(R95)(R96)(R97)・X- (VIII)-R98-A50-R99 (IX)-SO3R100 (X)式(IV)において、Ra1、Rb1、Rc1、Rd1、及びRe1は、各々独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。m、nは各々独立に0〜3の整数を表し、m+nは、2以上6以下である。式(V-1)〜(V-4)において、R1b〜R5bは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1b〜R5bの内の2つは、結合して環を形成してもよい。式(VII)において、R1d〜R8dは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Rd0は、水素原子、鎖状または環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。mは、1〜10の整数を表す。式(VIII)中、R95〜R97は、各々独立に、水素原子、鎖状または環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。但し、R95〜R97は互いに結合して非芳香環、芳香環を形成しても良い。X-は、R-SO3-を表す。Rは脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。式(IX)中、R98は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。A50は、下記に示す官能基のいずれかを表す。【化6】R99は、水素原子またはアルキル基を表す。式(X)中、R100は、鎖状又は環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。

IPC (11件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/00 ,  C08F222/00 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/00 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/00 ,  C08F222/00 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/00 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (52件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA11 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB45 ,  2H025CB48 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EB106 ,  4J002EV216 ,  4J002EV226 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J100AK32Q ,  4J100AM43Q ,  4J100AM45Q ,  4J100AM47Q ,  4J100AR03P ,  4J100AR09P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA55Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100DA28 ,  4J100DA61 ,  4J100FA03

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-277966   出願人：ジェイエスアール株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-213021   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074717   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-229793   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-229792   出願人：富士写真フイルム株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-015401   出願人：和光純薬工業株式会社, 住友化学工業株式会社
• 新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-174945   出願人：信越化学工業株式会社