特許
J-GLOBAL ID：200903060212502586

熱処理装置

発明者：
楠田 達文

楠田 達文 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-001276
公開番号（公開出願番号）：特開2009-164388
出願日： 2008年01月08日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【課題】熱処理時における基板上の温度分布の面内均一性を向上させることができる熱処理装置を提供する。【解決手段】保持部2に保持された基板Wに向けて、複数のハロゲンランプ31から光を照射して予備加熱処理を行い、複数のフラッシュランプ41から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。配置関係調整部6は、複数のフラッシュランプ41の位置および姿勢を変更することによって、複数のハロゲンランプ31と複数のフラッシュランプ41との幾何学的配置関係を調整する。ハロゲンランプ31やフラッシュランプ41が特定の方向について偏った配光特性をもつ場合であっても、両者の幾何学的配置関係を適切に調整することによって、互いの配光特性を相殺させてトータルで均一な光分布を形成させることができる。これによって、熱処理時における基板上の温度分布の面内均一性を向上させることができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板に対して光を照射することによって当該基板を加熱する熱処理装置であって、 基板を保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板と所定の距離だけ離間した位置から前記基板に向けて光を照射する複数のハロゲンランプを備える第1の光照射手段と、 前記保持手段に保持された基板と所定の距離だけ離間した位置から前記基板に向けて閃光を照射する複数のフラッシュランプを備える第2の光照射手段と、 前記複数のハロゲンランプと前記複数のフラッシュランプとの幾何学的配置関係を調整する配置関係調整手段と、 を備えることを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/26
FI (1件)：
H01L21/26 J
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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