フォトマスクブランク及びフォトマスク

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：藤村康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-090631
公開番号（公開出願番号）：特開2008-249950
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】クロムからなる遮光性膜(上層)をクロムのエッチング液でウエットエッチングする際に、下層のタンタル系半透光性膜へのダメージを極力抑えることができ、しかもエッチングストッパも不要で膜構成が単純であるFPDデバイスを製造するためのマスクブランクを提供する。【解決手段】FPDデバイスを製造するためのマスクブランクであって、基板と、前記基板上に形成されたタンタルを含む材料からなる半透光性膜と、前記半透光性膜上に形成されたクロムと窒素とを含む材料からなる遮光性膜と、を備え、ることを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

FPDデバイスを製造するためのマスクブランクであって、基板と、前記基板上に形成されたタンタルを含む材料からなる半透光性膜と、前記半透光性膜上に形成されたクロムと窒素とを含む材料からなる遮光性膜と、を備えることを特徴とするマスクブランク。

IPC (1件)：

G03F 1/08

FI (1件)：

G03F1/08 G

Fターム (8件)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB06 , 2H095BB14 , 2H095BB25 , 2H095BB28 , 2H095BC05 , 2H095BC11

引用特許：

出願人引用 (1件)

フォトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-390382 出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (8件)

フォトマスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-079402 出願人：凸版印刷株式会社
調芯機構
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-189753 出願人：株式会社ニコン
位相シフトマスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-240804 出願人：凸版印刷株式会社

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