特許
J-GLOBAL ID:200903060715756097
半導体レーザ吸収分光装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
光石 俊郎
, 田中 康幸
, 松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-320532
公開番号(公開出願番号):特開2006-133013
出願日: 2004年11月04日
公開日(公表日): 2006年05月25日
要約:
【課題】 被測定ガスのガス圧が10mbar未満であっても、信号対雑音比を十分大きくして、精度良くガス濃度を測定することができる半導体レーザ吸収分光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 アンモニアガスG1が充填されるガスセル24内に配置され、電流励起により駆動する電流励起型面発光半導体レーザ21と、電流励起型面発光半導体レーザ21から出射される半導体レーザ光の光路上に、且つガスセル24内に配置される凹面鏡23とからなる2つの共振器を有し、アンモニアガスG1に照射された半導体レーザL1を受光する第1のフォトダイオード52と、電流励起型面発光半導体21から照射された半導体レーザL2を受光する第2のフォトダイオード55とを備えて、第1及び第2のフォトダイオード52,55にそれぞれ受光した半導体レーザ光L1,L2の発光強度からアンモニアガスG1の濃度を測定するようにした。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
半導体レーザ光による吸収分光法を用いてガス濃度を評価する半導体レーザ吸収分光装置において、
半導体レーザから出射された前記半導体レーザ光が伝搬する光路上に3つの反射鏡が設置され、隣接する2つの反射鏡からなる2つの共振器を有し、前記2つの共振器のうち一方に被測定ガスを配置した
ことを特徴とする半導体レーザ吸収分光装置。
IPC (3件):
G01N 21/39
, G01N 21/35
, H01S 5/183
FI (3件):
G01N21/39
, G01N21/35 Z
, H01S5/183
Fターム (19件):
2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059CC01
, 2G059DD12
, 2G059DD13
, 2G059EE01
, 2G059EE12
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059KK03
, 2G059LL01
, 2G059LL03
, 5F173AC03
, 5F173AC14
, 5F173AC33
, 5F173AC53
, 5F173AH14
, 5F173AL13
引用特許:
審査官引用 (9件)
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レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-007218
出願人:ホーヤ株式会社
-
レーザ・システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-282070
出願人:ヒューレット・パッカード・カンパニー
-
光学式ガス分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-062283
出願人:日本無線株式会社
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