特許
J-GLOBAL ID：200903060970892573

パターン描画装置およびパターン描画方法

発明者：
熱田 均

熱田 均 について

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陶山 武史

陶山 武史 について

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中西 健二

中西 健二 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 小笠原 史朗 ,  高田 猛二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-088471
公開番号（公開出願番号）：特開2009-244380
出願日： 2008年03月28日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：
【課題】被露光領域の走査露光を複数回の往復走査で行う場合に全体の処理時間を短縮することができるパターン描画装置の提供。【解決手段】対象物に光を照射する投光器と、投光器から照射された光の反射光の光量分布を検出するラインセンサと、露光ヘッド、投光器、ラインセンサを往復走査させる主走査機構と、光量分布のピーク部分の重心位置を算出する重心位置算出部と、重心位置と目標位置との差に基づいて露光ヘッドの光学系を移動させる距離を算出する移動距離算出部と、その距離に基づいて光学系を移動させる移動部とを備え、露光ヘッドが対象物上を主走査方向に沿って走査露光しているとき、ラインセンサは、露光ヘッドが走査露光中の走査列の近傍に位置する走査列であって後で露光ヘッドが走査露光する走査列からの反射光の光量分布を検出する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
対象物に対してビーム光を照射することにより当該対象物にパターンを描画するパターン描画装置であって、 前記対象物が設置されるステージと、 前記対象物に対し主走査方向へ相対移動しつつ前記対象物にビーム光を照射する露光ヘッドと、 前記対象物に対し主走査方向へ相対移動しつつ前記対象物に光を照射する投光器と、 直線状に配列された複数の画素を有し、前記投光器から照射された光が前記対象物で反射されたときの反射光の光量分布を検出するラインセンサと、 前記露光ヘッド、前記投光器、および前記ラインセンサが一定の位置関係を保った状態でこれらを前記ステージに対し相対的に主走査方向に沿って往復走査させる主走査機構と、 前記露光ヘッド、前記投光器、および前記ラインセンサが一定の位置関係を保った状態でこれらを前記ステージに対し相対的に前記主走査方向と直交する副走査方向に走査させる副走査機構と、 前記ラインセンサにより検出された光量分布のピーク部分の重心位置を算出する重心位置算出部と、 前記ピーク部分の重心位置と前記ラインセンサの前記複数の画素上で予め設定された目標位置との差を算出し、その差に基づいて、前記対象物の表面に前記ビーム光の焦点が合うように前記露光ヘッド内の光学系を移動させる距離を算出する移動距離算出部と、 前記移動距離算出部で算出された距離に基づいて、前記光学系を移動させる移動部とを備え、 前記露光ヘッドが前記対象物上を前記主走査方向に沿って走査露光しているとき、前記ラインセンサは、前記露光ヘッドが走査露光中の走査列の近傍に位置する走査列であって後で前記露光ヘッドが走査露光する走査列からの反射光の光量分布を検出し、 前記ラインセンサにより前記光量分布が検出された位置に前記露光ヘッドが到来した時に、前記移動部は前記光学系を移動させることを特徴とするパターン描画装置。
IPC (3件)：
G03F 9/02 ,  H01L 21/027 ,  G01B 11/00
FI (4件)：
G03F9/02 Z ,  H01L21/30 526B ,  H01L21/30 529 ,  G01B11/00 Z
Fターム (28件)：
2F065AA02 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065CC17 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF42 ,  2F065GG06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065MM16 ,  2F065NN02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ28 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097GB04 ,  2H097KA38 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB08
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 露光装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-028884   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (4件)
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