特許
J-GLOBAL ID：200903061007344958

研磨布およびそれを用いてなるテクスチャー加工方法

発明者：
田辺 昭大

田辺 昭大 について

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箭内 勝文

箭内 勝文 について

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中井 俊一郎

中井 俊一郎 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-311026
公開番号（公開出願番号）：特開2005-074609
出願日： 2003年09月03日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】テクスチャー加工に必要な研磨布の使用量を少なくし、加工効率に優れ、スクラッチ欠点が少なく、基板表面上に0.3nm以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する。【解決手段】研磨布は、平均繊維径0.5〜4μmの極細短繊維束を絡合させてなる不織布とその内部空間に存在する高分子弾性体とからなり、かつ、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面となっているシート状物において、該高分子弾性体と該極細繊維束の最外周に位置する繊維とが部分的に接合されており、かつ、該立毛面の立毛繊維の大部分が立毛面内において、一方向に直線状に揃えられた状態で配列されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
平均繊維径0.5〜4μmの極細短繊維束を絡合させてなる不織布とその内部空間に存在する高分子弾性体とからなり、かつ、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面となっているシート状物において、該高分子弾性体と該極細繊維束の最外周に位置する繊維とが部分的に接合されており、かつ、該立毛面の立毛繊維の大部分が、一方向に直線状に揃えられた状態で配列されていることを特徴とする研磨布。
IPC (3件)：
B24B37/00 ,  B24B1/00 ,  G11B5/84
FI (3件)：
B24B37/00 C ,  B24B1/00 D ,  G11B5/84 A
Fターム (16件)：
3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049CA01 ,  3C049CB02 ,  3C049CB05 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB05 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA13
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (6件)
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