荷電粒子ビーム装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-226866
公開番号（公開出願番号）：特開2008-053001
出願日： 2006年08月23日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：

【課題】収差を軽減して試料に荷電粒子ビームを照射可能であるとともに、試料の表面にガスを導入する場合などでも、放電のおそれ無く荷電粒子ビームを照射することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム装置1は、荷電粒子ビームIを放出する荷電粒子源9と、荷電粒子ビームIを補正、偏向する補正・偏向手段19、及び、二つの外側電極16a、16bと、外側電極16a、16bに挟み込まれた少なくとも一つの中間電極16cとが、照射方向に配列して構成され、荷電粒子ビームIを集束させて試料Mに照射させる対物レンズ16を有する荷電粒子ビーム光学系11と、荷電粒子ビーム光学系11の対物レンズ16の中間電極16cに、外側電極16a、16bに対して正負いずれかの電位差が生じるように電圧を切り替えて印加することが可能な対物レンズ制御電源36とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源と、該荷電粒子ビームを必要に応じて補正、偏向する補正・偏向手段、及び、二つの外側電極と、該外側電極に挟み込まれた少なくとも一つの中間電極とが、前記荷電粒子ビームの照射方向に配列して構成され、前記荷電粒子ビームを集束させて試料に照射させる対物レンズを有する荷電粒子ビーム光学系と、該荷電粒子ビーム光学系の前記対物レンズの前記中間電極に、前記外側電極に対して正負いずれかの電位差が生じるように電圧を切り替えて印加することが可能な対物レンズ制御電源とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (2件)：

H01J 37/30 , H01J 37/317

FI (2件)：

H01J37/30 Z , H01J37/317 D

Fターム (4件)：

5C034AA01 , 5C034AB07 , 5C034AB09 , 5C034DD03

引用特許：

出願人引用 (1件)

集束イオンビーム装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-048263 出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社

審査官引用 (6件)

静電レンズ
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-041895 出願人：株式会社日立製作所
特開昭62-184754
特開昭56-133825

全件表示

前のページに戻る