特許
J-GLOBAL ID：200903009435597206
ビーム照射装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池田 憲保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-347499
公開番号（公開出願番号）：特開2006-156246
出願日： 2004年11月30日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【課題】 コンタミネーションを低減できるビーム照射装置を提供する。【解決手段】 イオン源1からのビームを、質量分析電磁石装置3ならびにビーム整形装置を通過させた後、ビームを横方向にスキャンする偏向走査装置7ならびにビーム平行化装置、加速/減速装置を経て後段のエネルギー分析装置によりエネルギー分析を行なった後、ウエハ23に照射するよう構成したビーム照射装置において、前記エネルギー分析装置として、静電、電磁の両機能を持つハイブリッド型の角度エネルギーフィルター18を設け、前記角度エネルギーフィルターの下流側には、照射されるべきイオン種に対応して切替えられる複数のエネルギースリットを持つマルチサーフェスエネルギースリット19を設置することにより、低エネルギーから高エネルギーまでの高電流ビームを、中性粒子、異種ドーパント、金属、パーティクル等のコンタミネーションが極めて少ない状態で、選択的に照射できるようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ビーム発生源からのイオンビームまたは荷電粒子ビーム(以下、ビームと総称する)を、前段の質量分析装置ならびにビーム整形装置を通過させた後、ビームを横方向にスキャンする偏向走査装置ならびにビーム平行化装置、加速/減速装置を経て後段のエネルギー分析装置によりエネルギー分析を行なった後、基板に照射するよう構成したビーム照射装置において、
前記後段のエネルギー分析装置として、静電、電磁の両機能を持つハイブリッド型の角度エネルギーフィルターを設け、
前記角度エネルギーフィルターの下流側には、照射されるべきイオン種に対応して切替えられる複数のエネルギースリットを持つマルチサーフェスエネルギースリットを設置することにより、低エネルギーから高エネルギーまでの高電流ビームを、中性粒子、異種ドーパント、金属、パーティクル等のコンタミネーションが極めて少ない状態で、選択的に照射できるようにしたことを特徴とするビーム照射装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
H01J37/317 C
, H01L21/265 603B
5C034CC02
, 5C034CC17
, 5C034CD03
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
