特許
J-GLOBAL ID：200903061334272758
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-359959
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147516
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】【課題】 高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】 透明基板10と、この透明基板上に積層されたハーフトーン材料膜11と、このハーフトーン材料膜上に積層された金属膜12を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜の少なくともハーフトーン材料膜と接する材料を窒素を含有する材料で構成した。
請求項（抜粋）：
透明基板と、この透明基板上に形成されたハーフトーン材料膜と、このハーフトーン材料膜上に形成された金属膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜の少なくともハーフトーン材料膜と接する材料を窒素を含有する材料で構成したことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
