特許
J-GLOBAL ID：200903061433676909
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-294863
公開番号（公開出願番号）：特開2004-133029
出願日： 2002年10月08日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【解決手段】透明基板上に、モリブデンと、タンタル、ジルコニウム、クロム及びタングステンから選ばれる1種以上の金属と、酸素、窒素及び炭素から選ばれる1種以上の元素とを含有する金属シリサイド化合物からなる位相シフター膜を有することを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクブランク。【効果】本発明によれば、加工性に優れ、かつ耐薬品性、特に耐アルカリ薬品性に優れた、高品質なハーフトーン位相シフトマスクブランクを提供することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明基板上に、モリブデンと、タンタル、ジルコニウム、クロム及びタングステンから選ばれる1種以上の金属と、酸素、窒素及び炭素から選ばれる1種以上の元素とを含有する金属シリサイド化合物からなる位相シフター膜を有することを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクブランク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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