特許
J-GLOBAL ID：200903066450703474
フォトマスク用ブランクス及びフォトマスクの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-265315
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072443
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】【解決手段】 ターゲットと、このターゲットと対向する位置に配設された成膜対象である透明基板とをチャンバ内に備え、このチャンバ内に反応性ガスを含むスパッタガスを供給して、反応性スパッタリングを行うことにより透明基板上に位相シフト膜を成膜するフォトマスク用ブランクスの製造方法において、上記ターゲットとして金属の単体、合金、金属化合物から選ばれる少なくとも1種のターゲットと、単結晶シリコンからなるターゲットを各々1個以上配設すると共に、該ターゲットと基板とを相対的に移動させながら反応性スパッタリングを行うことを特徴とするフォトマスク用ブランクスの製造方法。【効果】 本発明によれば、ターゲットからの発塵が著しく減少し、欠陥やパーティクルが発生することが極めて少ないフォトマスク用ブランクス及びフォトマスクを得ることができる。
請求項（抜粋）：
ターゲットと、このターゲットと対向する位置に配設された成膜対象である透明基板とをチャンバ内に備え、このチャンバ内に反応性ガスを含むスパッタガスを供給して、反応性スパッタリングを行うことにより透明基板上に位相シフト膜を成膜するフォトマスク用ブランクスの製造方法において、上記ターゲットとして金属の単体、合金、金属化合物から選ばれる少なくとも1種のターゲットと、単結晶シリコンからなるターゲットを各々1個以上配設すると共に、該ターゲットと基板とを相対的に移動させながら反応性スパッタリングを行うことを特徴とするフォトマスク用ブランクスの製造方法。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, C23C 14/00
, C23C 14/06
, C23C 14/34
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, C23C 14/00 B
, C23C 14/06 E
, C23C 14/34 N
, H01L 21/30 502 P
2H095BB03
, 2H095BB31
, 2H095BC08
, 4K029AA08
, 4K029BA52
, 4K029BD00
, 4K029BD01
, 4K029BD04
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC05
, 4K029DC39
, 4K029EA05
