特許
J-GLOBAL ID：200903061516920704
ネガ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023206
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133607
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】ArFエキシマレーザ等の220nm以下の波長の光源を用いたリソグラフィに使用され、透明性、耐エッチング性を兼ね備えたネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】少なくとも一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重合体と、一般式(2)で表される官能基を含む化合物からなる架橋剤と、露光により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】(一般式(1)において、R1は水素原子あるいはメチル基、R2は橋かけ環式炭化水素基を有する炭素数7〜18のアルキレン基を表す。また、重合体の重量平均分子量は1000〜500000である。)【化2】(一般式(2)において、R8は水素原子もしくは炭素数1から6のアルキル基もしくは炭素数3から6のオキソアルキル基を表す。)
請求項（抜粋）：
少なくとも一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重合体と、一般式(2)で表される官能基を含む化合物からなる架橋剤と、露光により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】(一般式(1)において、R1は水素原子あるいはメチル基、R2は橋かけ環式炭化水素基を有する炭素数7〜18のアルキレン基を表す。また、重合体の重量平均分子量は1000〜500000である。)【化2】(一般式(2)において、R8は水素原子もしくは炭素数1から6のアルキル基もしくは炭素数3から6のオキソアルキル基を表す。)
IPC (5件)：
G03F 7/038 601
, C08L 33/14
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/038 601
, C08L 33/14
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
