特許
J-GLOBAL ID：200903061629064804

プラズマ処理装置

発明者：
関谷 高幸

関谷 高幸 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (6件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  鈴木 壯兵衞 ,  高久 浩一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-072452
公開番号（公開出願番号）：特開2008-270184
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、しかも処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】複数の板状のアノード埋込ブレードの並列配置からなる分割型アノード電極(9l-1,9l-2,9l-3;11l-1,11l-2,11l-3)と、アノード埋込ブレードのそれぞれの一方の端部に対向して配置されたカソード(24,25)とを備え、アノード埋込ブレードのそれぞれは、板状のアノード誘電体11l-1,11l-2,11l-3と、このアノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタル9l-1,9l-2,9l-3からなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の板状のアノード埋込ブレードの並列配置からなる分割型アノード電極と、 前記アノード埋込ブレードのそれぞれの一方の端部に対向して配置されたカソードと、 を備え、前記分割型アノード電極と前記カソード間に処理ガスを導入して、前記分割型アノード電極と前記カソード間に少なくとも形成されるプラズマ処理空間内にプラズマを生成し、前記アノード埋込ブレードのそれぞれは、板状のアノード誘電体と、該アノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタルからなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24 ,  H05H 1/46 ,  B01J 19/08
FI (3件)：
H05H1/24 ,  H05H1/46 M ,  B01J19/08 E
Fターム (14件)：
4G075AA22 ,  4G075BC10 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EC25 ,  4G075FB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (9件)
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