特許

J-GLOBAL ID：200903061660220709

リソグラフィ装置、熱調節システム、およびデバイス製造方法

発明者： ウィルヘルムス ヨセフス ボクス ,  ベルナルデュス アントニウス ヨハネス ルッティクイス ,  トーマス ヘンリクス ヤコブス フェラーゲン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  山本 貴和 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-130916
公開番号（公開出願番号）：特開2005-322907
出願日： 2005年04月28日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

【課題】リソグラフィ投影装置では、レンズ支持体を使って投影レンズが基準フレームに取付けてあり、結像精度を高めるために、安定連鎖の一部を形成するこの投影レンズ、レンズ支持体および基準フレームの熱安定性を改善すること。【解決手段】基準フレームMF上に投影レンズPLを支持する投影レンズ支持体LSを熱調節するための熱調節システムが設けてある。直接熱調節システムでは、レンズ支持体に中を熱調節流体を通す熱調節チャンネルがあり、間接熱調節システムでは、レンズ支持体に取付けた熱調節板4にこの熱調節チャンネルが設けてあり、それぞれ、この熱調節流体によってレンズ支持体を冷却または加熱する。この熱調節チャンネルは、熱調節流体を外へ漏さないために閉チャンネルであるのが好ましい。また、この熱調節システムは、ガス熱調節システムであってもよい。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線ビームを供給するように構成した照明システム、 前記放射線ビームの断面にパターンを与えることができ、それでパターン化した放射線ビームを作るパターニング装置を支持するように構成した支持構造体、 基板を保持するように構成した基板テーブル、 前記パターン化した放射線ビームを基板の目標部分上に投影するように配置した投影システム、 基準フレーム上に前記投影システムを支持するように構成した投影システム支持体、および 前記投影システム支持体を熱的に調節するように構成した熱調節システム、を含むリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 516E ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502H

Fターム (4件)：

5F046BA03 ,  5F046CB26 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 露光装置及び光学装置、デバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-031504   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-305274   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-359287   出願人：株式会社ニコン
• 平面モータ装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-345429   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置及び半導体デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-179587   出願人：株式会社ニコン