成膜装置および成膜方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-348502
公開番号（公開出願番号）：特開2008-159947
出願日： 2006年12月25日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：

【課題】誘導加熱を用いて分解温度の高い成膜ガスを安定に分解し、成膜を行うことが可能な成膜装置を提供する。【解決手段】内部が減圧空間とされる処理容器と、前記減圧空間に成膜ガスを供給するガス供給手段と、カーボンを主成分とする材料により構成され、前記減圧空間に被処理基板を保持する基板保持部と、前記処理容器の外側に設置される、前記基板保持部を誘導加熱するコイルと、前記基板保持部を覆うと共に、前記処理容器から離間させて設置される断熱材と、を有し、前記減圧空間は、前記成膜ガスが供給される成膜ガス供給空間と、前記基板保持部と前記処理容器との間に画成される断熱空間とに分離され、前記断熱空間に冷却媒体が介在されるように構成されていることを特徴とする成膜装置。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

内部が減圧空間とされる処理容器と、前記減圧空間に成膜ガスを供給するガス供給手段と、カーボンを主成分とする材料により構成され、前記減圧空間に被処理基板を保持する基板保持部と、前記処理容器の外側に設置される、前記基板保持部を誘導加熱するコイルと、前記基板保持部を覆うと共に、前記処理容器から離間されて設置される断熱材と、を有し、前記減圧空間は、前記成膜ガスが供給される成膜ガス供給空間と、前記基板保持部と前記処理容器との間に画成される断熱空間とに分離され、前記断熱空間に冷却媒体が介在されるように構成されていることを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , C23C 16/42 , C23C 16/46

FI (3件)：

H01L21/205 , C23C16/42 , C23C16/46

Fターム (19件)：

4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030BA37 , 4K030FA10 , 4K030KA23 , 4K030LA12 , 5F045AA06 , 5F045AB06 , 5F045AC01 , 5F045AC07 , 5F045AC19 , 5F045AD16 , 5F045BB02 , 5F045DP15 , 5F045EJ04 , 5F045EJ10 , 5F045EK03 , 5F045EK24 , 5F045EM10

引用特許：

出願人引用 (2件)

エピタキシャル成長装置サセプターのクリーニング装置とその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-073343 出願人：コマツ電子金属株式会社
エピタキシャルウェーハの製造装置およびエピタキシャルウェーハの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-119230 出願人：三菱住友シリコン株式会社

審査官引用 (5件)

成膜装置及び成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-363644 出願人：京セラ株式会社
パルスCVI装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-238978 出願人：東海カーボン株式会社
特開平3-243776

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