欠陥分類方法およびその装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-002574
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200356
出願日： 1999年01月08日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】本発明の課題は、欠陥部分の画像のみでは分類が困難な欠陥を正確に分類する方法ならびに装置を提供することである。【解決手段】上記課題は、欠陥画像の画像特徴量を抽出する手段と、該画像に対応する欠陥の基板に設けられた座標系における欠陥座標から座標特徴量を算出する手段と、予め分類結果が判明している欠陥につき前記画像特徴量および座標特徴量を学習する手段と、前記学習結果に基づき未知の欠陥を分類する手段とを備えることにより解決される。

請求項（抜粋）：

基板に形成された回路パターンのパターン検査で検出された欠陥について該欠陥を撮像して得られた画像を、欠陥種類毎に分類する欠陥分類方法であって、撮像した画像から欠陥の画像特徴量を算出する過程と、該画像に対応する欠陥座標を用いて座標特徴量を算出する過程と、予め分類結果が判明している欠陥につき前記画像特徴量および座標特徴量を学習する過程と、前記学習結果に基づき未知の欠陥を分類することを特徴とする欠陥分類方法。

IPC (3件)：

G06T 7/00 , G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (5件)：

G06F 15/62 405 A , G01N 21/88 J , H01L 21/66 J , G01N 21/88 645 A , G06F 15/70 465 A

Fターム (43件)：

2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB11 , 2G051AB14 , 2G051AB20 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051DA01 , 2G051DA07 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC01 , 2G051ED23 , 2G051FA10 , 4M106AA01 , 4M106BA20 , 4M106CA38 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB04 , 4M106DB21 , 4M106DJ14 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 4M106DJ38 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA01 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB06 , 5B057DB09 , 5B057DC33 , 5L096AA02 , 5L096BA03 , 5L096HA09 , 5L096JA11 , 5L096KA13 , 5L096KA15

引用特許：

審査官引用 (7件)

パターン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-168659 出願人：シャープ株式会社
半導体装置の製造システム及び欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-007222 出願人：株式会社日立製作所
プロセス異常監視方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-002736 出願人：株式会社日立製作所

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