特許
J-GLOBAL ID：200903062761341546
感光性材料の積層構造および微細パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-204102
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019930
出願日： 2003年06月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
【課題】本発明の課題は、リソグラフィにより形成できるパターンの寸法を微細化し、かつ、パターンの配置密度を大幅に高めることである。【解決手段】下層感光性材料の表面に、該下層感光性材料の露光波長の光に対して透過性が良いパターンを、該パターンを通った光の位相が該パターンが存在しない部分を通った光と大略反転するような膜厚で位相シフタとして形成し、その上から露光光線を照射して下層感光性材料を露光する。位相シフタは、下層感光性材料上に上層感光性材料を付すか、中間層非感光性材料と上層感光性材料を付して形成する。位相シフタの輪郭位置でだけ下層感光性材料に照射される光の強度が低くなるため、微細パターンを形成することができ、位相シフタの両側にパターンができるのでパターン密度を倍加することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光波長λの下層感光性材料の表面に、露光雰囲気の屈折率をn0、Nを0または正の整数とする時、該露光波長の光に対する屈折率がn1で前記の露光波長λの光に対して透過性の良い上層感光性材料を大略t=(2N+1)λ/2(n1-n0)の膜厚で付したことを特徴とする感光性材料の積層構造
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F7/11
, G03F7/26
H01L21/30 573
, G03F7/11 502
, G03F7/26 511
2H025AA02
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025BJ00
, 2H025DA13
, 2H025DA14
, 2H096AA25
, 2H096AA28
, 2H096KA08
, 5F046NA01
, 5F046NA03
, 5F046NA05
, 5F046NA07
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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