特許
J-GLOBAL ID：200903063002320140

荷電粒子線照射装置および治療装置

発明者：
小森 雅孝

小森 雅孝 について

, 
金井 達明

金井 達明 について


出願人/特許権者：
独立行政法人放射線医学総合研究所

独立行政法人放射線医学総合研究所 について


代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-195215
公開番号（公開出願番号）：特開2005-103255
出願日： 2004年07月01日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】 照射ポート長を短縮した場合でも、荷電粒子ビームの残飛程が短くなること及び、線量管理を複雑にすることなく、大きな一様照射野を容易に形成できる。【解決手段】 第1のビーム通路からの荷電粒子ビーム2を散乱体を通過させた後、Y方向のワブラー電磁石5、X方向のワブラー電磁石6を順次通過させる。そして、これら各ワブラー電磁石5,6によって荷電粒子ビーム2のワブラー半径を、所定の周期関数に基いて変化させることにより、荷電粒子ビーム2を標的となる患者8の患部に対して螺旋を描くように照射する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
加速器で加速された高エネルギーの荷電粒子をワブラー電磁石によりスキャンさせながら標的に照射する荷電粒子線照射装置において、 前記高エネルギーの荷電粒子を前記ワブラー電磁石を用いて螺旋を描くように標的に照射することを特徴とする荷電粒子線照射装置。
IPC (3件)：
A61N5/10 ,  A61N5/01 ,  G21K5/04
FI (4件)：
A61N5/10 H ,  A61N5/10 D ,  A61N5/01 A ,  G21K5/04 A
Fターム (13件)：
2G085BA11 ,  2G085BA14 ,  2G085BA19 ,  2G085CA11 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG05 ,  4C082AG08 ,  4C082AG12 ,  4C082AG52 ,  4C082AP08
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 回転ガントリ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-065505   出願人：株式会社日立製作所
審査官引用 (5件)
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