特許
J-GLOBAL ID：200903063224692363

薄膜形成装置

発明者：
キム,ジャン・ナム

キム,ジャン・ナム について


出願人/特許権者：
エルジー電子株式会社

エルジー電子株式会社 について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-267881
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160855
出願日： 2002年09月13日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】 大面積の薄膜を均一に形成することのできる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】 ある一表面内に溝を有し、該溝内には前記パネル上に形成する薄膜物質が満たされている蒸着ソースと、蒸着ソースに熱を加えて薄膜物質を昇華させるためのヒータと、蒸着ソースの溝をカバーするように装着され、パネル上に形成される薄膜物質の形成量を調節するように多数のホールを有するマスクとを含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
一表面に溝を有し、その溝内にパネル上に形成する薄膜物質が満たされている蒸着ソースと、前記蒸着ソースに熱を加えて前記薄膜物質を昇華させるヒータと、前記蒸着ソースの溝をカバーするように装着され、前記パネル上に形成される薄膜物質の形成量を調節する多数のホールを有するマスクと、を含むことを特徴とするディスプレイパネル上に薄膜を形成する薄膜形成装置。
IPC (3件)：
C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3件)：
C23C 14/24 A ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (9件)：
3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DB12 ,  4K029DB17 ,  4K029HA03
引用特許：
審査官引用 (8件)
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