特許
J-GLOBAL ID:200903063631601631
半導体装置およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 富士弥 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-193937
公開番号(公開出願番号):特開2003-007975
出願日: 2001年06月27日
公開日(公表日): 2003年01月10日
要約:
【要約】【課題】LSI機能ブロックの待機時の消費電力を無くすと共に、電源線の電圧降下を減少させる。【解決手段】 太陽電池20とLSIの機能ブロックを構成するSOIFET素子6、7とを埋め込み酸化膜11によって分離して一体に設け、SOIFET素子分離膜13と埋め込み酸化膜11に開口し、該開口部を層間膜にて埋めた後にコンタクトホールを開口し、コンタクト材料31、32を埋め込むことによって太陽電池にSOIFET素子を接続する。機能ブロックのONであるとき太陽電池20に面発光レーザ40から光りエネルギーを供給し、OFFであるとき、光りエネルギーの供給を止める。OFFであるときブロックユニットへのパワー供給は完全に遮断され、待機時の消費電力は無くなる。電源は短いコンタクト31、32で接続され抵抗が殆ど無いので、電圧降下は減少する。
請求項(抜粋):
半導体LSIにおいて、一部の電力供給を光エネルギーを利用して供給する光エネルギー供給システムを有することを特徴とする半導体装置。
IPC (8件):
H01L 27/08 331
, H01L 21/822
, H01L 21/8238
, H01L 27/00 301
, H01L 27/04
, H01L 27/092
, H01L 29/786
, H01L 31/04
FI (7件):
H01L 27/08 331 E
, H01L 27/00 301 A
, H01L 29/78 613 Z
, H01L 27/04 F
, H01L 27/08 321 D
, H01L 27/08 321 L
, H01L 31/04 Q
Fターム (29件):
5F038DF08
, 5F038EZ20
, 5F048AA00
, 5F048AB03
, 5F048AB04
, 5F048AC04
, 5F048AC10
, 5F048BA16
, 5F048BB14
, 5F051BA05
, 5F051DA04
, 5F051DA20
, 5F051EA20
, 5F051JA20
, 5F051KA05
, 5F110AA09
, 5F110BB04
, 5F110BB11
, 5F110CC02
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110GG02
, 5F110GG12
, 5F110GG25
, 5F110NN62
, 5F110NN65
, 5F110NN71
, 5F110QQ16
, 5F110QQ19
引用特許:
審査官引用 (9件)
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-204871
出願人:三洋電機株式会社
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集積回路装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-252256
出願人:セイコーエプソン株式会社
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SOI構造を有する半導体素子及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-147113
出願人:三星電子株式会社
-
特開平4-345064
-
半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-294329
出願人:セイコーエプソン株式会社
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特開平4-345064
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半導体集積回路装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-318401
出願人:日本電装株式会社
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基体から素子形成層を分離する方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-037655
出願人:ソニー株式会社
-
特開平4-324671
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